윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령이 2023년 5월 20일 경기 평택 삼성전자 반도체 공장에서 만나 웨이퍼에 서명하는 모습 @뉴시스
윤석열 대통령과 조 바이든 미국 대통령이 2023년 5월 20일 경기 평택 삼성전자 반도체 공장에서 만나 웨이퍼에 서명하는 모습 @뉴시스

반도체 수요가 올 2분기부터 본격적으로 되살아 날것으로 보는 배경에는 생성 AI(인공지능) 데이터 센터와 전기자동차 (EV) 수요의 급격한 확대가 자리 잡고 있다. 이에 맞추어 한국은 말할 것도 없고 일본 미국 대만 유럽 등 경쟁국마다 정부 업계 공동으로 대형 투자계획이 구체화 되고 있다. 윤석열 정부도 지난 16일 세 번째 민생토론회를 통해 6백 22조 원을 투자, 경기도 남부 일대에 첨단 공장과 연구시설 등 16곳 신설을 골자로 한 세계 최고 최대 클러스터 구축에 나섰다. 

반도체 경기가 살아나면 완제품뿐만 아니라 관련 소재, 부품, 장치도 활기를  
띄게 마련. 정부의 대형투자 계획에 맞춘 듯이 원판인 웨이퍼의 불순물을 씻는데 불가결한, 그래서 ‘반도체의 생명수’로 불리는 초순수(超純水:산소와 수수만 남기고 무기질과 박테리아 등은 완전히 제거한 물) 국산화에 성공, 8월부터 생산라인에 공급하게 되었다. 삼성전자가 반도체 주요 수요상품인 휴대전화에 AI를 접목한 갤럭시 S24와 24+를 공개, 세계를 놀라게 한 것 못지않은 놀라운 성과다. 

반도체 소부장, 특히 장치부문은 한국의 약점으로 꼽혀 왔다. 문재인 정부 때 대일 강경외교 후유증으로 반도체 관련 소부장의 한국 수출이 중단되자 큰 고통을 겪은 이유이며 동시에 이번에 성공한 초순수 개발에 주력한 배경이다. 그러나 초순수 개발에 성공한 것만으로 만족할 수 없는 것이 반도체 세계의 기술 경쟁이다. 일본 역시 지금까지 네덜란드 ASML이 독점하고 있던 한자리 나노 미터급 (1나노는 10억분의 1m) 반도체에 쓰이는 극자외선(EUV) 노광장치(露光裝置) 개발에 성공, 작년 10월부터 판매하고 있다. 캐논사가 개발한 나노 임프린트 리소그래피(NIL: NANO Imprint Lithography)장치는 5나노미터급 이상에 필요한 최소폭 14나노미터 회로 패턴을 그려 넣는 장비다. 개구수(開口數)0.33인 ASML의 EUV노광장치의 13 나노미터에 버금가는 수준이다.

반도체 중흥에 나선 일본은 일단 제조설비 경쟁력 강화에 집중, 공급한 장치의 유지 관리 서비스를 위한 서비스 엔지니어 확보에 주력하고 있다. 이에 따라 작년 상반기 현재 도쿄 일렉트론을 비롯한 일본의 주요 5개사 해외 종업원 수가 일본 국내 종업원 규모를 능가한 것으로 나타났다. 작년 상반기 기준 해외 종업원 수가 일본 국내 종업원보다 10%포인트나 많은 6천 62명이다.

반도체와 전기자동차를 염두에 둔 미국 EU 일본이 보조금 지급에 공통 기준 마련에 나선 것이 삼각 동맹이 구체화라는 우려를 낳고 있다. 미국 인텔이 삼성전자를 추월, 세계 1위 반도체 업체로 나섰으나 메모리 비메모리 반도체 생산국은 한국과 대만이 아직은 앞서 있다. 그러나 기술 사이클이 점점 짧아지면서 격차도 눈에 보이지 않을 정도로 좁혀지고 있음을 생각할 때 미 유럽 일본의 삼각 동맹 구체화는 심각한 문제가 될 수도 있다. 따라서 이번에 발표된 세계 최고 최대급 반도체 클러스터 계획은 한국이 던진 승부수로 봐야 한다.

문제는 지난 60년대 경제개발 5개년 계획으로 산업화에 착수한 이래 한국은 기술과 자본은 외국에서 도입, 노동력만으로 압축성장의 신화를 일구었다. 그 과정은 원천 기술 개발이 아니라 도입한 기술 응용력, 다시 말하면 상품개발 아이디어로 군림해왔다고 봐야 한다. 이제는 원천 기술 개발에 중점을 둘 시점을 맞았음을 알아야 한다. 현재 반도체 분야의 선두에 서 있으나 경쟁국과 차이는 언제 따라잡혀도 이상할 것이 없는 초격차 수준이다. 현재 첨단 반도체 경쟁은 2나노미터급에 누가 먼저 골인하느냐로 뼈를 깎고 있다. 아직은 삼성전자가 한걸음 앞서 있으나 미국의 인텔과 대만의 TSMC의 추격도 만만치 않다.

여기서 주목할 점은 기술 개발도 중요하지만 가지고 있는 기술을 지키는 것 도 그에 못지않다는 사실이다. 지금까지 국내 반도체 기업에 장기 근무했던 기술자가 제3국이 제시하는 높은 급료와 몫 돈에 눈이 멀어 설계도를 넘긴 적이 한두 번이 아니다. 그러나 적발되더라도 그들이 받는 처벌은 받은 돈에 비하면 극히 미미한 것 역시 현실이다. 따라서 최근 대법원이 양형기준을 기존의 ’9년 형‘을 최대 18년형으로 높인 것은 고무적이다. 이를 계기로 법을 고쳐서라도 기술 유출을 산업 스파이로 처벌할 수 있도록 해야 할 것이다. 

 

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